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高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环铑颗粒蒸发镀膜

   日期:2016-06-01     作者:陈工    
核心提示:随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展,我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度,通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程,我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
 高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环铑颗粒蒸发镀膜
 
产品名称:
铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶
牌号规格:
Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 :
主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
 
 
 



随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展,我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度,通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程,我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
铑溅射靶材Rhodium (Rh)
形状
圆形、方形
尺寸
Φ50~170mm
厚度
3~15mm
纯度
≥3N5
注:其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。
 
 
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