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产品名称：
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钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材
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牌号规格：
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Ru2
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用途备注：
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钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等
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产品详情
钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。
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规格尺寸
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形状
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圆形、方形
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尺寸
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Φ50~170mm
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厚度
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3~15mm
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纯度
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4N
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注：其它尺寸可根据客户要求制作。
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